Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem: http://repositorio.usfq.edu.ec/handle/23000/8354
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Campo DC Valor Lengua/Idioma
dc.contributor.advisorCrupi, Felice, director-
dc.contributor.authorSánchez López, Luis Alfredo-
dc.date.accessioned2019-10-02T17:03:52Z-
dc.date.available2019-10-02T17:03:52Z-
dc.date.issued2019-
dc.identifier.citationTesis (Magister en Nanoelectrónica), Universidad San Francisco de Quito, Colegio de Posgrados; Quito, Ecuador, 2019es_ES
dc.identifier.urihttp://repositorio.usfq.edu.ec/handle/23000/8354-
dc.descriptionThe present research aims to understand the influence of the charge trapping rate in Silicon Carbide (SiC) metal-oxide semiconductor-field-e↵ect-transistors (MOSFETs) which nowadays have special interest for high power applications. It’s very important the study of the reliability of this new generation of high power devices according to the applications such as solar inverters..es_ES
dc.description.abstractLa presente investigación tiene como objetivo comprender la influencia de la tasa de captura de carga en transistores de efecto de campo metal-óxido-semiconductor (MOSFET) de carburo de silicio (SiC), que en la actualidad tienen un interés especial para aplicaciones de alta potencia. Es muy importante el estudio de la confiabilidad de esta nueva generación de dispositivos de alta potencia de acuerdo con las aplicaciones tales como inversores solares...es_ES
dc.format.extent57 h.es_ES
dc.language.isospaes_ES
dc.publisherQuitoes_ES
dc.rightsopenAccesses_ES
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/3.0/ec/es_ES
dc.subjectNanoelectrónica -- Investigaciones -- Tesis y disertaciones académicas.es_ES
dc.subjectMateriales nanoestructurados.es_ES
dc.subjectCircuitos integrados.es_ES
dc.subject.otherTecnologíaes_ES
dc.subject.otherIngeniería electrónicaes_ES
dc.titleThreshold voltage instability in silicon carbide power MOSFETes_ES
dc.typemasterThesises_ES
Aparece en las colecciones: Tesis - Maestría en Nanoelectrónica

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